美国KRi 大口径射频离子源 RFICP 380, 3层栅极设计, 栅极口径 38cm, 提供离子动能 100-1200eV 宽束离子束, 最大离子束流 > 1000mA, 满足 300 mm (12英寸)晶圆应用. 广泛应用于离子束刻蚀机. RFICP 380型美国KRI大口径射频离子源产品特性介绍如下： 1. 放电腔 Discharge Chamber, 无需电离灯丝, 通过射频技术提供高密度离子, 工艺时间更长. 2kW & 1.8 MHz, 射频自动匹配 2. 离子源结构模块化设计 3. 离子光学, 自对准技术, 准直光束设计, 自动调节技术保障栅极的使用寿命和可重复的工艺运行 4. 全自动控制器 5. 离子束动能 100-1200eV 6. 栅极口径 38cm, 满足 300 mm (12英寸)晶圆应用 RFICP 380型美国KRI大口径射频离子源技术规格： 阳极 | 电感耦合等离子体
2kW & 1.8 MHz
射频自动匹配 | 最大阳极功率 | >1kW | 最大离子束流 | > 1000mA | 电压范围 | 100-1500V | 离子束动能 | 100-1200eV | 气体 | Ar, O2, N2,其他 | 流量 | 5-50sccm | 压力 | < 0.5mTorr | 离子光学, 自对准 | OptiBeamTM | 离子束栅极 | 38cm Φ | 栅极材质 | 钼 | 离子束流形状 | 平行,聚焦,散射 | 中和器 | LFN 2000 or RFN | 高度 | 38.1 cm | 直径 | 58.2 cm | 锁紧安装法兰 | 12"CF |
美国考夫曼 KRI 大口径射频离子源 RFICP 220, RFICP 380 成功应用于 12英寸和 8英寸磁存储器刻蚀机, 8英寸量产型金属刻蚀机中, 实现 8英寸 IC 制造中的 Al, W 刻蚀工艺, 适用于 IC, 微电子,光电子, MEMS 等领域. 作为蚀刻机的核心部件, KRI 射频离子源提供大尺寸, 高能量, 低浓度的离子束, 接受客户定制, 单次工艺时间更长, 满足各种材料刻蚀需求! 东莞市广联自动化科技有限公司专业供应进口电磁阀、气缸、泵、传感器、继电器、开关、离合器、过滤器、滤芯、流量计、液位计、编码器、伺服阀等产品。德国美国有公司，厂家一手货源，详请致电。
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