美国KRi霍尔离子源eH1000低成本设计提供高离子电流, 特别适合中型真空系统. 实现离子辅助镀膜, 预清洗和低能量离子蚀刻. 尺寸: 直径= 5.7“ 高= 5.5" 放电电压 / 电流: 50-300V / 10A 工艺气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体 美国KRi霍尔离子源eH1000产品特性介绍如下： • 可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时, 最大限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极 • 宽波束高放电电流 - 高电流密度; 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率 • 多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统; 安装方便; 无需水冷 • 等离子转换和稳定的功率控制 型号 | eH1000 / eH1000L / eH1000x02/ eH1000LEHO | 供电 | DC magnetic confinement | - 电压 | 40-300V VDC | - 离子源直径 | ~ 5 cm | - 阳极结构 | 模块化 | 电源控制 | eHx-30010A | 配置 | - | - 阴极中和器 | Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode | - 离子束发散角度 | > 45° (hwhm) | - 阳极 | 标准或 Grooved | - 水冷 | 前板水冷 | - 底座 | 移动或快接法兰 | - 高度 | 4.0' | - 直径 | 5.7' | - 加工材料 | 金属
电介质
半导体 | - 工艺气体 | Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors | - 安装距离 | 10-36" | - 自动控制 | 控制4种气体 |
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